標(biāo)題：金屬元素標(biāo)準(zhǔn)片X射線熒光測(cè)厚儀標(biāo)準(zhǔn)樣品

產(chǎn)品概述

　　金屬元素標(biāo)準(zhǔn)片X射線熒光測(cè)厚儀標(biāo)準(zhǔn)樣品專業(yè)用于X射線測(cè)厚儀（膜厚儀）在測(cè)金屬鍍層厚度時(shí)進(jìn)行的標(biāo)準(zhǔn)化校準(zhǔn)及建立測(cè)試檔案。也就是我們?cè)谀ず駵y(cè)試中常用的標(biāo)準(zhǔn)曲線法，是測(cè)量已知厚度或組成的標(biāo)準(zhǔn)樣品，根據(jù)熒光X-射線的能量強(qiáng)度及相應(yīng)鍍層厚度的對(duì)應(yīng)關(guān)系，來(lái)得到標(biāo)準(zhǔn)曲線。以此標(biāo)準(zhǔn)曲線來(lái)測(cè)量鍍層樣品，以得到鍍層厚度或組成比率。對(duì)于PCB、五金電鍍和半導(dǎo)體等行業(yè)使用測(cè)厚儀來(lái)檢測(cè)品質(zhì)和控制成本起到了很重要的作用。

　　膜厚標(biāo)準(zhǔn)片采用了磁性測(cè)厚法：是一種超小型丈量?jī)x，它能快速，無(wú)損傷，切確地進(jìn)行鐵磁性金屬基體上的噴涂。電鍍層厚度的丈量。可普遍用于制造業(yè)，金屬加工業(yè)，化工業(yè)，商檢等檢測(cè)領(lǐng)域。出格適用于工程現(xiàn)場(chǎng)丈量。

　　膜厚標(biāo)準(zhǔn)片采用磁感應(yīng)原理時(shí)，利用從測(cè)頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來(lái)測(cè)定覆層厚度。也可以測(cè)定與之對(duì)應(yīng)的磁阻的大小，來(lái)表示其覆層厚度。覆層越厚，則磁阻越大，磁通越小。利用磁感應(yīng)原理的測(cè)厚儀，原則上可以有導(dǎo)磁基體上的非導(dǎo)磁覆層厚度。如果覆層材料也有磁性，則要求與基材的導(dǎo)磁率之差足夠大（如鋼上鍍鎳）。當(dāng)軟芯上繞著線圈的測(cè)頭放在被測(cè)樣本上時(shí)，儀器自動(dòng)輸出測(cè)試電流或測(cè)試信號(hào)。早期的產(chǎn)品采用指針式表頭，測(cè)量感應(yīng)電動(dòng)勢(shì)的大小，儀器將該信號(hào)放大后來(lái)指示覆層厚度。近年來(lái)的電路設(shè)計(jì)引入穩(wěn)頻、鎖相、溫度補(bǔ)償?shù)鹊匦录夹g(shù)，利用磁阻來(lái)調(diào)制測(cè)量信號(hào)。還采用設(shè)計(jì)的集成電路，引入微機(jī)，使測(cè)量精度和重現(xiàn)性有了大幅度的提高（幾乎達(dá)一個(gè)數(shù)量級(jí)）。

　　金屬元素標(biāo)準(zhǔn)片X射線熒光測(cè)厚儀標(biāo)準(zhǔn)樣品采用二次熒光法：它的原理是物資經(jīng)X射線或粒子射線照射后，由于吸收過(guò)剩的能量而釀成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài)，此物資必需將過(guò)剩的能量釋放出來(lái)，而此時(shí)是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來(lái)。熒光X射線鍍層厚度丈量?jī)x或成份分析儀的原理就是丈量這被釋放出來(lái)的熒光的能量及強(qiáng)度，來(lái)進(jìn)行定性和定量分析。